近日,中歐電子氣體及材料公司電子級特種氣體生產(chǎn)項目簽約落戶重慶市長壽經(jīng)開區(qū)。
該項目由邦盟(日本)資本有限公司投資4.6億元,分兩期建設年產(chǎn)5735噸電子級特種氣體生產(chǎn)基地,計劃今年11月開工,2018年3月一期建成投產(chǎn),整個項目達產(chǎn)后將實現(xiàn)年產(chǎn)值約10億元。該項目為重慶市首個電子級特種氣體生產(chǎn)項目,主要生產(chǎn)六氟化鎢、三氟化氮等27種(類)電子級特種氣體,部分產(chǎn)品填補國內(nèi)空白,可滿足集成電路、液晶面板生產(chǎn)工藝對高純特種氣體的需求。未來,還將在渝建設電子級特種氣體研發(fā)中心及設備生產(chǎn)基地。該項目的落戶,加強了該市電子專用原材料的本地配套能力,進一步完善了電子核心基礎部件產(chǎn)業(yè)鏈條,將有力助推重慶市戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
說到電子氣體,下面譜源氣體給大家全面介紹多種電子氣體
摻雜氣:
AsH3、PH3、GeH4、B2H6、AsCl3、AsF3、H2S、BF3、BCl3、SeH2、SbH3、(CH3)2Te、(CH3)2Cd、(C2H5)2Cd、PCl3、(C2H5)2Te
晶體生長氣:
SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、B2H6、BBr3、BCl3、AsH3、PH3、GeH4、TeH2、(CH3)3Al、(C2H5)3Al、(CH3)3As、(C2H5)3As、(CH3)2Hg、(CH3)P、(C2H5)3P、SnCl4、GeCl4、SbCl5、AlCl3、Ar、He、H2
氣相蝕刻氣:
CL2、HCl、HF、HBr、SF6
等離子蝕刻氣:
SIF4、CF4、C3F8、CHF3、C2F6、CClF3、O2、C2ClF5、NF3、SF6、BCl3、HFCl2、N2、He、Ar
離子束蝕刻氣:
C3F8、CHF3、CClF3、CF4
離子注入氣:
AsF3、PF3、PH3、BF3、BCl3、SiF4、SF6、H2、N2
化學氣相淀集氣:
SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、NH3、NO、O2
平衡氣:
N2、Ar、He、H2、CO2、N2O、O2
外延氣:
SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、Si2H6、HCl、PH3、AsH3、B2H6、He、H2、N2、Ar