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如何去除四氟化碳？降低溫室效應(yīng)
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結(jié)構(gòu)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時(shí)間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳?xì)怏w非常重要。 不同添加氣體對微波電漿更多 +
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電子特氣—三氟碘甲烷蝕刻技術(shù)
三氟碘甲烷作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經(jīng)濟(jì)效用高、滅火后不留痕跡等特點(diǎn)，是哈龍1301優(yōu)選替代品種，經(jīng)NFPA的標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證，可正式使用。在航空、航天等領(lǐng)域具有不可替代的作用。作為制冷劑，三氟碘甲烷不燃，具有油溶性和材料相容性很好的特點(diǎn)，被認(rèn)為是傳統(tǒng)氟利昂制冷劑組元的理想替代品之一。另外，三氟碘甲烷在含氟中間體、半導(dǎo)體蝕刻、發(fā)泡劑等其它領(lǐng)域也具有廣泛的應(yīng)用前景。 三氟碘甲烷（CF3I）作為半導(dǎo)體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進(jìn)制程，與同種刻蝕氣體CF4，C4F6相比，三氟碘甲烷（C更多 +
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六氟化硫固體分解物解析
電弧、電火花和電暈放電的作用下，可導(dǎo)致SF6氣體發(fā)生復(fù)雜的分解，生成各種有毒氣體，主SF4，SOF2，SO2F2，SOF4，SO2，CO2，H2S，HF和CF4等。這些分解物大部分對人體有害，同時(shí)也會(huì)危害環(huán)境，處理好這些六氟化硫分解物就非常重要！更多 +
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以高溫微波電漿火炬轉(zhuǎn)化四氟化碳與六氟化硫的研究
無論是六氟化硫還是四氟化碳，都是能引發(fā)溫室效應(yīng)的溫室氣體，在我們的生產(chǎn)生活當(dāng)中，這兩種群體也時(shí)常見到。如果能將這兩種氣體在使用完畢之后變轉(zhuǎn)化回收，不是直接散發(fā)到空氣中，將在極大程度上保護(hù)環(huán)境。利用高溫電漿火炬進(jìn)行對CF4與SF6兩種全氟溫室氣體轉(zhuǎn)化就是目前科學(xué)家研究的事情。更多 +
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