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高純氣體的純度越高越好嗎？
高純氣體（如氮氣、氧氣、氬氣等）在各行各業(yè)的應(yīng)用十分廣泛，不同的應(yīng)用對高純氣體的純度要求也有所不同。在實驗研究領(lǐng)域，由于要保證實驗研究結(jié)果的準(zhǔn)確性，對高純氣體的純度要求非常嚴(yán)格。 汽車行業(yè) 高純氣體用作零氣，可在校準(zhǔn)過程中滿足客戶對分析更為精確苛刻的需求。NO、NO2、N2O等不純物指標(biāo)低于20ppb，CO、CO2、CH4、NMTHC均低于50ppbV，保證了極為精確的零點。 石油、煤化工和化工行業(yè) 高純氣體的關(guān)鍵雜質(zhì)含量極低，如O2<100ppbV和H2O<400ppbV，可高效地保護(hù)色譜柱和更多 +
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氣體純度及其表示法
由于氣體分為簡單氣體、多組分氣體、混合氣體和有機化合物氣體，構(gòu)成氣體的物質(zhì)（或元素）可稱為氣體組分。因此，氣體純度的含義可以理解為除氣體成分外還包含許多其他物質(zhì)。例如，氮的純度是指除N組分外，O2、H2、Ar、CO2、H2O、金屬和灰塵顆粒等雜質(zhì)的量；氨的純度是指除NH3外，O2、N2、CO2、H2O和灰塵顆粒等雜質(zhì)的量；另一個例子是氮氣和氦氣的混合物，它指的是N2和He組分旁邊的雜質(zhì)量，如O2、CO2、H2O塵埃顆粒。 參考?xì)怏w純度的方法有很多，如普通清潔氣體、高純度氣體、電子清潔氣體、超純氣體更多 +
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氬氣純化方法
對于氣體，純度是衡量氣體質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)。作為惰性氣體，氬氣可以用作生產(chǎn)單晶和多晶的保護(hù)氣體。為了提高硅晶體的質(zhì)量，選擇高純度的氬氣非常重要，這不僅可以提高晶體的壽命，而且可以滿足市場需求。 通常，氬氣凈化過程由清潔裝置實現(xiàn)。氬氣提純方法可分為直接脫氧法和吸氣劑提純法。 直接脫氧法：活性金屬與氬氣中的氧反應(yīng)，消化氬氣中氧，達(dá)到脫氧的目的。分子篩吸附的氬氣中的水分子使氬氣的水含量小于1ppm。 吸氣劑清潔方法：使用吸氣劑清洗劑或干燥劑。吸氣劑可以與氬氣中的痕量單元形成穩(wěn)定的連接，以達(dá)到精煉氬氣的效果。經(jīng)吸更多 +
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氬氣吹氬---影響光譜儀質(zhì)量因素
在影響光譜儀質(zhì)量的因素中，吹氬效果是一個重要因素。 氬氣吹掃的主要功能是在樣品被激發(fā)時排出火花室中的空氣，并減少紫外線光譜線通過空氣的吸收。這主要是由于空氣中的氧和水蒸氣在遠(yuǎn)紫外范圍內(nèi)具有強吸收帶，這對分析結(jié)果有很大影響，并且不利于激發(fā)的穩(wěn)定性，在激發(fā)過程中形成或放大擴散電荷并產(chǎn)生白點。因此，氬氣的純度必須超過99996%。此外，氬氣的壓力和流量也對分析質(zhì)量有一定的影響，這決定了氬氣對放電表面的沖擊能力。該興奮性應(yīng)足夠低，不足以沖走樣品激發(fā)過程中產(chǎn)生的氧氣和氧化物。這些氧化物在電極表面上聚集，從而抑制更多 +
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一篇讀懂光譜儀為什么一定要用高純氬氣？
眾所周知，氬氣在光譜儀中的作用相對重要，而光譜儀要求氣體為高純度氬氣。 目前，市場上的許多高純度氬氣無法達(dá)到PPM水平，這無法確保光譜能夠被充分激發(fā)。尤其是鋼瓶頂部的氬氣是最好的，它下降得越多，就越不穩(wěn)定。氬氣作為一種保護(hù)氣體，可以排出火花系統(tǒng)中的空氣，因為空氣中的氧氣和水在熔融高溫狀態(tài)下導(dǎo)致金屬氧化，形成保護(hù)膜，樣品進(jìn)一步熔化和霧化。結(jié)果是“擴散放電”，通常稱為“白點”。 光譜儀中使用的氬氣純度要求≥99.996%，因為一旦氬氣純度不高，可能會更多 +
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氮氣咖啡需要使用食品級氮氣嗎？
許多人應(yīng)該聽說過氮咖啡。與碳酸飲料相比，含氮飲料口感更順滑、更濃，沒有刺激感。作為一種食用產(chǎn)品，氮咖啡中的所有成分必須是食品安全的，以確保食品安全。然而，許多人不知道像氮這樣熟悉但未知的氣體。我們?nèi)绾未_定是否使用食品級氮？ 氮氣根據(jù)純度可分為工業(yè)氮氣、純氮氣和高純度氮氣。它們的純度分別為99.5%和99.99%。根據(jù)國家標(biāo)準(zhǔn)GB29902-2012《食品安全國家標(biāo)準(zhǔn)食品添加劑氮》，食品添加劑氮的純度必須僅達(dá)到99.0%。這是否意味著我們可以在食品工業(yè)中用氮取代食品級氮？ 不是真的。除純度外，氮作為食更多 +
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氫能獲取方法
兩百年前，人們開始關(guān)注氫能的使用。自20世紀(jì)70年代以來，氫能研究已在許多國家和地區(qū)廣泛開展。20世紀(jì)60年代初，中國在使用液氫和燃料電池作為火箭燃料方面做了大量工作。20世紀(jì)70年代，氫能的使用有所增加。 氫氣作為一種重要的工業(yè)氣體，根據(jù)原料、能源、設(shè)備和成本以及氫氣純度和消耗量的要求，可以采用以下方式進(jìn)行處理： 水-氣轉(zhuǎn)換工藝。水蒸氣通過熱焦炭層產(chǎn)生水蒸氣，然后水蒸氣與水蒸氣混合。以氧化鐵為催化劑，CO轉(zhuǎn)化為水煤氣，轉(zhuǎn)化為CO2。二氧化碳溶解在水中，通過壓力水洗獲得純凈氫。這種方法制氫能力大，成更多 +
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工業(yè)氧氣和醫(yī)用氧氣有什么區(qū)別
氧氣分為工業(yè)氧氣和醫(yī)用氧氣。差異： 1.氧氣的濃度和質(zhì)量不同。 工業(yè)氧氣中含有許多雜質(zhì)，工廠檢驗中沒有對其進(jìn)行要求。特殊氣體網(wǎng)絡(luò)和氧氣濃度99%以上合格。因此，吸入影響人們的健康。醫(yī)用氧氣純度高，氧含量濃度不低于99.5%，無色無味。醫(yī)用氧氣必須檢測雜質(zhì)，一旦雜質(zhì)超標(biāo)，就不能輸送。 2.適用范圍不同。 醫(yī)用氧氣是臨床醫(yī)用氧氣，俗稱干氧，主要用于預(yù)防和治療缺氧患者；工業(yè)氧氣實際上是用于工業(yè)生產(chǎn)和產(chǎn)品加工的氧氣。 3.濕度控制不同。 醫(yī)用氧氣需要很低的含水量，因為水會導(dǎo)致鐵氧化，當(dāng)吸入人體時會造更多 +
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三氯氫硅還原法制取高純硅的化學(xué)原理
SiHCl3的合成 第一步：由硅石制取粗硅 硅石（SiO2）和適量的焦炭混合，并在電爐內(nèi)加熱至1600~1800℃ 可制得純度為95%~99%的粗硅。其反應(yīng)式如下： SiO2+3C=SiC+2CO（g）↑ 2SiC+SiO2=3Si+2CO（g）↑ 總反應(yīng)式： SiO2+2C=Si+2CO（g）↑ 生成的硅由電爐底部放出，澆鑄成錠。用此法生產(chǎn)的粗硅經(jīng)酸處理后，其純度可達(dá)到99.9%。 第二步：SiHCl3的合成 SiHCl3是由干燥的氯化氫氣體和粗硅粉在合成更多 +
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氮氣發(fā)生器的工作原理
氮氣發(fā)生器是一種先進(jìn)的氣體分離技術(shù)，采用優(yōu)質(zhì)進(jìn)口碳分子篩（CMS）作為吸附劑，采用變壓吸附（PSA）原理在室溫下分離空氣，產(chǎn)生高純度氮氣。其主要應(yīng)用領(lǐng)域有：航空航天、核能和核能、食品和醫(yī)藥、石油化工、電子工業(yè)、材料工業(yè)、國防軍工、科學(xué)實驗等。 電化學(xué)制氮（需要“添加液體”）： 電化學(xué)氮氣發(fā)生器可以產(chǎn)生純氮氣、氧氣和其他氣體。它采用恒電位電解法，使用微孔膜（如石棉膜）作為兩個電極的分隔板，多孔氣體擴散氧氣電極作為陰極，鎳機作為陽極，電極安裝有硬支撐結(jié)構(gòu)。發(fā)電機能在氮氣室和氧氣室更多 +
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