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你了解過激光切割氣體嗎？
激光切割機的輔助氣體主要用于： 1.激光氣體（用于在激光發(fā)生器中產(chǎn)生激光的氣體） 2.壓縮空氣（通常用于保護光路，一些制造商也將其用作保護氣體） 3.輔助氣體 用于切割碳鋼的氧氣純度通常為99.5%或更高。主要功能是支持燃燒和吹出爐渣。每個激光切割機制造商的壓力和流量不同，這與切割噴嘴的尺寸和切割材料的厚度密切相關(guān)。一般要求壓力為0.3-0.8Mpa，切割噴嘴一般為0.02-0.05Mpa。很難說流量，例如切割22mm碳鋼時，應(yīng)達到某些制造商10M3/h的流量（包括保護雙層切割噴嘴的氧氣）更多 +
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電子氣體是什么？
電子氣體是指用于半導(dǎo)體及其他電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體，與傳統(tǒng)的工業(yè)氣體相比，電子氣體特殊，在氣體的純凈度要求極高，所以也被稱為電子特種氣體，廣泛應(yīng)用于集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜、新能源汽車、環(huán)保醫(yī)療等領(lǐng)域。 國內(nèi)特種氣體于20世紀(jì)80年代隨著國內(nèi)電子行業(yè)的興起而逐步發(fā)展，隨著技術(shù)的逐步突破，國內(nèi)氣體公司在電光源、氣體、激光氣體、消毒氣體等領(lǐng)域發(fā)展迅速，但與國外氣體公司相比，大部分國內(nèi)氣體公司的供應(yīng)產(chǎn)品仍然較為單一。尤其是在集成電路顯示面板、光伏能更多 +
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二氧化碳激光氣體激光切割主要特點
二氧化碳激光氣體產(chǎn)生激光切割的切割縫小，加工件不易變形：通過二氧化碳激光氣體生產(chǎn)的激光光束是一個連續(xù)的、非常小的光點，這些小光束具有很大的熱能量，能夠快速加熱加工件使其汽化蒸發(fā)形成小孔，激光光點隨著設(shè)計的要求進行線性移動，加工件形成的小孔進而形成切割縫很小的切邊，一般只有0.1~0.5mm。切割時根據(jù)不同的材料一般用氧氣或者氮氣作為激光切割輔助氣體。激光切割質(zhì)量要遠遠好過乙炔火焰切割,乙炔火焰切割的切割縫最大可能達到20mm。 二氧化碳激光氣體產(chǎn)生的激光切割跟加工件無接觸：由于二氧化碳激光更多 +
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氦氣，氮氣，氙氣屬于特種氣體嗎？
電子氣體是指用于半導(dǎo)體及其他電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體，與傳統(tǒng)的工業(yè)氣體相比，電子氣體特殊，在氣體的純凈度要求極高，所以也被稱為電子特種氣體，廣泛應(yīng)用于集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜、新能源汽車、環(huán)保醫(yī)療等領(lǐng)域。 國內(nèi)特種氣體于20世紀(jì)80年代隨著國內(nèi)電子行業(yè)的興起而逐步發(fā)展，隨著技術(shù)的逐步突破，國內(nèi)氣體公司在電光源、氣體、激光氣體、消毒氣體等領(lǐng)域發(fā)展迅速，但與國外氣體公司相比，大部分國內(nèi)氣體公司的供應(yīng)產(chǎn)品仍然較為單一。尤其是在集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜等高更多 +
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一周翻了5倍的稀有氣體——氖氣
氖氣（Ne），制造芯片的關(guān)鍵性材料，怎么個關(guān)鍵？ 沒有光刻機，做不出芯片。 沒有光刻氣，光刻機就是個模型。 氖氣，占光刻氣這種激光氣體混合物的96%以上。 氖氬氟等稀有氣體經(jīng)高壓受激發(fā)后形成等離子體，在這個過程中，由于電子躍遷，會產(chǎn)生固定波長的光線，形成了剔除光刻膠的刀片。 除此之外，還有兩個好兄弟，氪氣（同樣用于光刻制程），氙氣（用于半導(dǎo)體刻蝕制程）。 一周內(nèi)，氪氣漲幅約30%，目前主流價格在38000-42000元/方。氙氣漲幅約40%，主流價格在42萬—45萬/方。更多 +
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韓國稀有氣體“氖”成功實現(xiàn)國產(chǎn)化！
隨著近年來半導(dǎo)體市場的高速增長，半導(dǎo)體工藝中使用的氖 (Ne)、氙 (Xe) 和氪 (Kr) 等稀有氣體的需求迅速增加。韓國稀有氣體市場預(yù)計將從2020年約1600億韓元增長到2023年約2800億韓元，年均增長20%。然而，韓國目前100%進口稀有氣體。 氖氣是空氣中含量僅有0.00182%的一種稀有氣體，是半導(dǎo)體曝光工藝中使用的準(zhǔn)分子激光氣體的原料之一。過去，全部進口并依賴外國技術(shù)，由于貿(mào)易爭端導(dǎo)致價格飆升和供應(yīng)短缺，韓國曾試圖將產(chǎn)品本地化。此次建成的裝置每年可生產(chǎn)約22000更多 +
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存儲芯片需求增長，2025年電子級稀有氣體用量或增加至850ML
在信息時代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對于芯片算力提出越來越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時更低的存儲介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲器高深寬比刻蝕工藝，從而實現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預(yù)計2025年全球電子級稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長29%。 激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體更多 +
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環(huán)境監(jiān)測為什么會用激光氣體？
用激光測濕氣或其他氣體，具有很多長處。激光混合氣體 第一:激光不會影響被測氣體的組分和形狀; 第二：它能夠?qū)ξｋU氣體進行遠程非接觸式丈量，保證測驗人員安全; 第三：它的丈量精度十分高，丈量下限可能達到PPM量級; 第四，每種氣體的監(jiān)測對應(yīng)特定激光波長，不存在交叉干擾，易于檢測混合氣體中的特定成分; 第五，傳感器完全采用光學(xué)結(jié)構(gòu)，本質(zhì)安全，傳感端不易遭到電磁輻射的干擾，不產(chǎn)生火花 ; 第六，激光的響應(yīng)速度十分快，可以達到毫秒量級。 專業(yè)人士提出，“尤其是激光的反應(yīng)速度，比更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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激光器使用的激光氣體和切割輔助氣
激光氣體中的發(fā)生氣體時激光發(fā)生器上用來產(chǎn)生激光的氣體，對氣體質(zhì)量要求高，激光混合氣配制精度要求高，高純二氧化碳純度達99.999%，高純氮氣的純度99.999%，高純氦氣的純度要求99.999%，二氧化碳是產(chǎn)生激光的，氦氣是冷卻激光器的，氮氣是平衡氣體，氣體中的水分、氧份、有機氣體雜質(zhì)對激光機的鏡片損傷特別大，能快速減少鏡片的壽命。所以激光機對這些氣體的質(zhì)量要求特別高。 激光切割輔助氣體主要是干燥空氣、高純氮氣或工業(yè)氧氣，當(dāng)切割不銹鋼板或是切割鋁板時一般使用高純氮氣更多 +
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