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常用氣體混合物
氣體混合物是指根據(jù)使用要求，按一定比例生產(chǎn)的兩種或多種純氣體的混合物。有二元或多組分氣體混合物，有數(shù)千種。普通氣體混合物分為普通氣體混合物和電子工業(yè)用氣體混合物。一般氣體混合物包括激光氣體混合物、特殊儀器氣體混合物、焊接氣體混合物、防腐氣體混合物、電光源氣體混合物、醫(yī)學(xué)和生物研究氣體混合物、消毒和滅菌氣體混合物、泄漏檢測(cè)（報(bào)警）氣體混合物、高壓氣體混合物和零級(jí)空氣。電子工業(yè)的混合物包括外延（生長(zhǎng)）混合物、化學(xué)氣相沉積（CVD）混合物、摻雜混合物、蝕刻混合物和其他電子混合物。更多 +
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你了解過激光切割氣體嗎？
激光切割機(jī)的輔助氣體主要用于： 1.激光氣體（用于在激光發(fā)生器中產(chǎn)生激光的氣體） 2.壓縮空氣（通常用于保護(hù)光路，一些制造商也將其用作保護(hù)氣體） 3.輔助氣體 用于切割碳鋼的氧氣純度通常為99.5%或更高。主要功能是支持燃燒和吹出爐渣。每個(gè)激光切割機(jī)制造商的壓力和流量不同，這與切割噴嘴的尺寸和切割材料的厚度密切相關(guān)。一般要求壓力為0.3-0.8Mpa，切割噴嘴一般為0.02-0.05Mpa。很難說流量，例如切割22mm碳鋼時(shí)，應(yīng)達(dá)到某些制造商10M3/h的流量（包括保護(hù)雙層切割噴嘴的氧氣）更多 +
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電子氣體是什么？
電子氣體是指用于半導(dǎo)體及其他電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體，與傳統(tǒng)的工業(yè)氣體相比，電子氣體特殊，在氣體的純凈度要求極高，所以也被稱為電子特種氣體，廣泛應(yīng)用于集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜、新能源汽車、環(huán)保醫(yī)療等領(lǐng)域。 國(guó)內(nèi)特種氣體于20世紀(jì)80年代隨著國(guó)內(nèi)電子行業(yè)的興起而逐步發(fā)展，隨著技術(shù)的逐步突破，國(guó)內(nèi)氣體公司在電光源、氣體、激光氣體、消毒氣體等領(lǐng)域發(fā)展迅速，但與國(guó)外氣體公司相比，大部分國(guó)內(nèi)氣體公司的供應(yīng)產(chǎn)品仍然較為單一。尤其是在集成電路顯示面板、光伏能更多 +
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二氧化碳激光氣體激光切割主要特點(diǎn)
二氧化碳激光氣體產(chǎn)生激光切割的切割縫小，加工件不易變形：通過二氧化碳激光氣體生產(chǎn)的激光光束是一個(gè)連續(xù)的、非常小的光點(diǎn)，這些小光束具有很大的熱能量，能夠快速加熱加工件使其汽化蒸發(fā)形成小孔，激光光點(diǎn)隨著設(shè)計(jì)的要求進(jìn)行線性移動(dòng)，加工件形成的小孔進(jìn)而形成切割縫很小的切邊，一般只有0.1~0.5mm。切割時(shí)根據(jù)不同的材料一般用氧氣或者氮?dú)庾鳛榧す馇懈钶o助氣體。激光切割質(zhì)量要遠(yuǎn)遠(yuǎn)好過乙炔火焰切割,乙炔火焰切割的切割縫最大可能達(dá)到20mm。 二氧化碳激光氣體產(chǎn)生的激光切割跟加工件無接觸：由于二氧化碳激光更多 +
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氦氣，氮?dú)猓瘹鈱儆谔胤N氣體嗎？
電子氣體是指用于半導(dǎo)體及其他電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體，與傳統(tǒng)的工業(yè)氣體相比，電子氣體特殊，在氣體的純凈度要求極高，所以也被稱為電子特種氣體，廣泛應(yīng)用于集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜、新能源汽車、環(huán)保醫(yī)療等領(lǐng)域。 國(guó)內(nèi)特種氣體于20世紀(jì)80年代隨著國(guó)內(nèi)電子行業(yè)的興起而逐步發(fā)展，隨著技術(shù)的逐步突破，國(guó)內(nèi)氣體公司在電光源、氣體、激光氣體、消毒氣體等領(lǐng)域發(fā)展迅速，但與國(guó)外氣體公司相比，大部分國(guó)內(nèi)氣體公司的供應(yīng)產(chǎn)品仍然較為單一。尤其是在集成電路顯示面板、光伏能源、光纖光纜等高更多 +
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一周翻了5倍的稀有氣體——氖氣
氖氣（Ne），制造芯片的關(guān)鍵性材料，怎么個(gè)關(guān)鍵？ 沒有光刻機(jī)，做不出芯片。 沒有光刻氣，光刻機(jī)就是個(gè)模型。 氖氣，占光刻氣這種激光氣體混合物的96%以上。 氖氬氟等稀有氣體經(jīng)高壓受激發(fā)后形成等離子體，在這個(gè)過程中，由于電子躍遷，會(huì)產(chǎn)生固定波長(zhǎng)的光線，形成了剔除光刻膠的刀片。 除此之外，還有兩個(gè)好兄弟，氪氣（同樣用于光刻制程），氙氣（用于半導(dǎo)體刻蝕制程）。 一周內(nèi)，氪氣漲幅約30%，目前主流價(jià)格在38000-42000元/方。氙氣漲幅約40%，主流價(jià)格在42萬—45萬/方。更多 +
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韓國(guó)稀有氣體“氖”成功實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化！
隨著近年來半導(dǎo)體市場(chǎng)的高速增長(zhǎng)，半導(dǎo)體工藝中使用的氖 (Ne)、氙 (Xe) 和氪 (Kr) 等稀有氣體的需求迅速增加。韓國(guó)稀有氣體市場(chǎng)預(yù)計(jì)將從2020年約1600億韓元增長(zhǎng)到2023年約2800億韓元，年均增長(zhǎng)20%。然而，韓國(guó)目前100%進(jìn)口稀有氣體。 氖氣是空氣中含量?jī)H有0.00182%的一種稀有氣體，是半導(dǎo)體曝光工藝中使用的準(zhǔn)分子激光氣體的原料之一。過去，全部進(jìn)口并依賴外國(guó)技術(shù)，由于貿(mào)易爭(zhēng)端導(dǎo)致價(jià)格飆升和供應(yīng)短缺，韓國(guó)曾試圖將產(chǎn)品本地化。此次建成的裝置每年可生產(chǎn)約22000更多 +
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存儲(chǔ)芯片需求增長(zhǎng)，2025年電子級(jí)稀有氣體用量或增加至850ML
在信息時(shí)代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對(duì)于芯片算力提出越來越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時(shí)更低的存儲(chǔ)介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲(chǔ)器高深寬比刻蝕工藝，從而實(shí)現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。預(yù)計(jì)2025年全球電子級(jí)稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長(zhǎng)29%。 激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機(jī)突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體更多 +
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環(huán)境監(jiān)測(cè)為什么會(huì)用激光氣體？
用激光測(cè)濕氣或其他氣體，具有很多長(zhǎng)處。激光混合氣體 第一:激光不會(huì)影響被測(cè)氣體的組分和形狀; 第二：它能夠?qū)ξｋU(xiǎn)氣體進(jìn)行遠(yuǎn)程非接觸式丈量，保證測(cè)驗(yàn)人員安全; 第三：它的丈量精度十分高，丈量下限可能達(dá)到PPM量級(jí); 第四，每種氣體的監(jiān)測(cè)對(duì)應(yīng)特定激光波長(zhǎng)，不存在交叉干擾，易于檢測(cè)混合氣體中的特定成分; 第五，傳感器完全采用光學(xué)結(jié)構(gòu)，本質(zhì)安全，傳感端不易遭到電磁輻射的干擾，不產(chǎn)生火花 ; 第六，激光的響應(yīng)速度十分快，可以達(dá)到毫秒量級(jí)。 專業(yè)人士提出，“尤其是激光的反應(yīng)速度，比更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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