氪氣具有密度高、導(dǎo)熱系數(shù)小、透射率大等性質(zhì)。廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)和電光源工業(yè)。紐瑞德高純氪氣供應(yīng),咨詢熱線:400-6277-838
氪具有比氬更大的相對分子質(zhì)量和小的導(dǎo)熱系數(shù),使它成為優(yōu)良的充填氣。用氪氣充填的等有:白熾燈、熒光燈、閃光弧光燈、碘燈等。氪燈比同功率的氟燈省電20%~25%,壽命長2~3倍。長壽命氪燈體積小,對礦井作業(yè)很適用。實驗室里用到的連續(xù)紫外光等也可以用氪氣充填。氪還能制成不需要電能的原子燈,用于無可用電源的工作場所。氪燈的透射能力特別強(qiáng),可用于夜戰(zhàn)中的越野戰(zhàn)車做照射燈。在飛機(jī)機(jī)場跑道上,通常使用氪氣充填的閃光弧光等做照明,因為它穿透霧的能力很強(qiáng)。
氪氣的新用途是用于電子工業(yè),準(zhǔn)分子激光刻蝕(Kr+F):1997年起已用于0.25μm的集成電路硅片生產(chǎn)線(128M,256M,1G,4G等硅片的生產(chǎn)),新用途的開發(fā)也改變了實際生產(chǎn)中Kr過剩而Xe不足的問題。在準(zhǔn)分子激光的應(yīng)用中,基于安全的因素,在(Kr+F)混合氣中含F(xiàn)的濃度控制在2.5%~10%(一般為5%)。其他還有(Kr+Ne+F)的三元混合氣。
目前氪氣已在鎧俠(日本東芝)、SK海力士規(guī)模應(yīng)用,市場有傳聞三星也有導(dǎo)入計劃。國內(nèi)長江存儲,大連英特爾已小規(guī)模在使用。氪氣其在3D NAND上應(yīng)用主要是深溝道槽的刻蝕與清潔。3D NAND的溝道槽縱深比大,按要求刻蝕好深溝道槽圖形的重要性非常突出。據(jù)消息人士2019年年底預(yù)測,2020年該行業(yè)氪氣的用量可達(dá)4000m3/月(沒有考慮疫情影響)。隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)、及各類電子產(chǎn)品快速迭代,大數(shù)據(jù)正呈現(xiàn)出爆炸式的增長,3DNAND芯片的需求也隨之高速增長。因而氪氣的使用量也隨著增長,突顯加劇
氪氣供需不平衡。