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: 惰性稀有氣體在霓虹燈管內(nèi)的作用

霓虹燈可分為兩類：填充惰性氣體的燈和填充氬汞氣體并在管內(nèi)壁涂有熒光粉的燈。放電過(guò)程中前者輻射原子的特征光譜；后者通過(guò)在放電過(guò)程中激發(fā)汞原子產(chǎn)生253.7 nm紫外光子輻射，這些紫外光子刺激熒光粉形成量子轉(zhuǎn)換并發(fā)光。僅使用填充惰性氣體的燈型，惰性氣體的主要功能如下： 1.參與原子的受激發(fā)射，例如充滿氖的霓虹燈發(fā)射紅色光譜； 2.有效維持放電過(guò)程，防止電子自由程過(guò)大，使自由電子在激發(fā)和電離過(guò)程發(fā)生之前自然消失； 3.控制電子遷移率，即控制放電管的電導(dǎo)率，以確定氖管中的電場(chǎng)強(qiáng)度，并使氖管的電壓降；
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: 四氯化硅氫還原法制取高純硅的化學(xué)原理

工業(yè)粗硅氯化生產(chǎn)四氯化硅目前，四氯化硅的工業(yè)處理工藝一般為直接氯化工藝，即工業(yè)粗硅在加熱條件下與氯直接反應(yīng)生成四氯化硅。在工業(yè)上常用的不銹鋼（或石英）氯化爐中，硅鐵被裝入氯化爐。氯從氯化爐底部引入，當(dāng)加熱到200~300℃時(shí)，反應(yīng)開(kāi)始產(chǎn)生SiCl4。化學(xué)反應(yīng)如下： Si-2Cl2、SiCl4 生成的SiCl4以氣體狀態(tài)從熔爐上部轉(zhuǎn)移到電容器，以液體狀態(tài)冷卻，然后流入儲(chǔ)罐。在生產(chǎn)中，氯化溫度一般控制在450～500℃，一方面可以提高生產(chǎn)率，另一方面可以保證質(zhì)量。因?yàn)闇囟鹊蜁r(shí)反應(yīng)速度慢，副產(chǎn)物S
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: 液壓氣體組成架構(gòu)

系統(tǒng)組成：動(dòng)力元件（油泵）、執(zhí)行機(jī)構(gòu)（油缸或液壓馬達(dá)）、控制元件（各種閥門）、輔助元件和工作介質(zhì)。 1.動(dòng)力元件（油泵）用于將驅(qū)動(dòng)器的機(jī)械能轉(zhuǎn)換為液壓能；它是液壓傳動(dòng)的動(dòng)力部分。 2.執(zhí)行機(jī)構(gòu)（油缸、液壓馬達(dá)）將液體的液壓能轉(zhuǎn)換為機(jī)械能。油缸筆直移動(dòng)，發(fā)動(dòng)機(jī)旋轉(zhuǎn)。 3.工作介質(zhì)工作介質(zhì)是指各種液壓傳動(dòng)中的液壓油或乳化液，通過(guò)油泵和液壓馬達(dá)實(shí)現(xiàn)能量轉(zhuǎn)換。 4.控制裝置包括壓力閥、流量閥、換向閥等。其功能是根據(jù)需要不斷調(diào)整液壓伺服電機(jī)的速度，并調(diào)節(jié)和控制液壓系統(tǒng)中工作流體的壓力、流量和流向。
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: 為什么氦氣始終比氫氣貴？

哇，氦氣太貴了！它比我買的氣球貴。這是錯(cuò)的嗎？目前，全球氦主要來(lái)自美國(guó)，美國(guó)的氦礦只能再開(kāi)采30年。換言之，氦現(xiàn)在是一種稀缺資源。目前，全球氦氣價(jià)格主要由美國(guó)工廠控制。無(wú)論是在中國(guó)還是在成都，氦氣的價(jià)格肯定會(huì)變得更貴。它的特點(diǎn)是化學(xué)成分。然而，這兩種氣體都能使氣球漂浮，但價(jià)格差異很大。一罐40升氦的價(jià)格約為1600元，一罐氫的價(jià)格約80元。氦是一種安全的惰性氣體；氫是一種更活潑的氣體，遇火星時(shí)很容易引起爆燃。為了降低成本，街頭小販?zhǔn)褂昧畠r(jià)的氫氣填充。為了您自己的安全，請(qǐng)遠(yuǎn)離街頭小販。氦氣應(yīng)用
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: 電子氣體定義及需求分析

根據(jù)氣體性質(zhì)和供應(yīng)包裝的不同，一般電子氣體可劃分為大宗普通氣體、特種氣體和大宗特種氣體。電子氣體行業(yè)的定義電子氣體是電子工業(yè)生產(chǎn)不可缺少的原料，如超大規(guī)模集成電路、平面顯示器、復(fù)合半導(dǎo)體器件、太陽(yáng)能電池、光纖等。它們廣泛應(yīng)用于薄膜、蝕刻、摻雜、氣相沉積、擴(kuò)散等工藝。電子燃?xì)庑枨蠓治? 電子氣體傳輸系統(tǒng)是指電子氣體從氣源端穩(wěn)定傳輸至工藝生產(chǎn)設(shè)備的氣體消耗點(diǎn)，無(wú)二次污染，并控制工藝所需的流量和壓力等參數(shù)，滿足工藝過(guò)程的要求，充分保證工藝和產(chǎn)品的安全使用。根據(jù)中國(guó)報(bào)告廳發(fā)布的報(bào)告，消費(fèi)電子產(chǎn)品
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: 如何控制CO2氣體焊接飛濺太大的問(wèn)題

根據(jù)不同熔滴過(guò)渡形式下飛濺的不同成因，應(yīng)采用不同的降低飛濺的不同成因，應(yīng)采用不同的降低飛濺的方法： 1.在無(wú)熔滴傳輸過(guò)程中，應(yīng)選擇合適的焊接電流和焊接電壓參數(shù)，避免使用大熔滴排除傳輸；同時(shí)，應(yīng)選擇優(yōu)質(zhì)的焊接材料，如H08Mn2SiA低碳焊絲和脫氧元素Mn和Si，以避免焊接材料因冶金反應(yīng)產(chǎn)生氣體沉淀或膨脹而產(chǎn)生飛濺水。 2.短路過(guò)渡期間（Ar+CO2），可使用混合氣體代替CO2，以減少飛濺水。如果φ（Ar）=20%~30%Ar相連，這是由于電弧形狀和熔滴過(guò)渡特性隨氬氣含量增加而變化。在電弧燃燒
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: 一氧化碳的生成機(jī)理

一氧化碳是大氣中最普遍、最常見(jiàn)的污染物，也是燃燒過(guò)程中產(chǎn)生的最重要的污染物之一。大氣中CO的主要來(lái)源是內(nèi)燃機(jī)的廢氣，其次是鍋爐中化石燃料的燃燒。CO是含碳燃料燃燒產(chǎn)生的中間產(chǎn)物，燃料中最初存在的所有碳都形成CO。 CO的生成和破壞過(guò)程受化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)機(jī)制控制，化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)是碳?xì)淙剂先紵^(guò)程中的基本反應(yīng)之一。其形成機(jī)理為：RH→R→RO2→RCHO→RCO→CO。式中，R為無(wú)烴基團(tuán)。反應(yīng)中的RCO原子基團(tuán)主要通過(guò)熱分解產(chǎn)生CO，也可以氧化碳?xì)浠?/div> 更多 +

: 高純氣體 - 高純氫中微量烴污染的分析

高純氫氣廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)、石油化工、金屬冶煉、國(guó)防、科研等部門，也可用作制備標(biāo)準(zhǔn)氣的原料氣和色譜用載氣。隨著科學(xué)技術(shù)的快速發(fā)展，科學(xué)實(shí)驗(yàn)和工業(yè)產(chǎn)品的生產(chǎn)，特別是一些高科技產(chǎn)品，如超大集成電路和光電子產(chǎn)品，要求嚴(yán)格控制氫純度和雜質(zhì)含量，并要求凈化O2、H2O、，HTC（總烴）、CO、CO2等雜質(zhì)至10-9-10-12；在有色金屬的熔煉和加工中，硅鋼、帶鋼、精密合金和浮法玻璃的生產(chǎn)需要純度為99.999%的氫氣；在天然氣工業(yè)中，氣體分析和氣體精煉需要純氫。目前，工業(yè)生產(chǎn)的大部分工業(yè)氫應(yīng)進(jìn)行凈化，以滿足生活
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: 測(cè)試二氧化硫標(biāo)氣過(guò)程中誤差造成的原因

1.首先，讓我簡(jiǎn)要解釋一下二氧化硫標(biāo)準(zhǔn)氣體測(cè)試中誤差值的原因。誤差值的常見(jiàn)原因主要分為五個(gè)方面。第一個(gè)是人為操作，即操作員的問(wèn)題。因此，我們需要選擇專業(yè)操作員在測(cè)試過(guò)程中工作，否則操作過(guò)程中的遺漏會(huì)導(dǎo)致某些錯(cuò)誤，如脫硫脫硝控制問(wèn)題或取樣流量控制問(wèn)題。錯(cuò)誤值的第二個(gè)原因可能是分析儀。由于分析儀的量程和精度問(wèn)題，測(cè)量值受到影響。第三個(gè)原因可能是預(yù)處理問(wèn)題。任何預(yù)處理過(guò)程中的問(wèn)題都可能導(dǎo)致錯(cuò)誤。冷卻器、過(guò)濾器和管道等問(wèn)題導(dǎo)致預(yù)處理失敗。也可能是由于熱傳導(dǎo)管道的問(wèn)題。如果導(dǎo)熱管道不發(fā)熱或發(fā)生結(jié)晶吸附現(xiàn)象，則
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: 標(biāo)準(zhǔn)氣體該要怎么使用？

1.標(biāo)準(zhǔn)氣體取樣標(biāo)準(zhǔn)氣體取樣方法的合理設(shè)計(jì)是確保樣品不受污染和準(zhǔn)確傳輸?shù)年P(guān)鍵。因此，必須選擇合適的閥門和管道。閥門或取樣口應(yīng)耐壓，死體積小，并具有控制功能。材料通常為黃銅鍍鉻。用于活性氣體如NO2、SO2等。它應(yīng)該由不銹鋼制成。取樣管線必須干凈、干燥且盡可能短，以便盡快沖洗殘余氣體。當(dāng)使用標(biāo)準(zhǔn)氣體如O2、N2、CO2等時(shí)。組分的含量容易受到環(huán)境的影響（氣體的影響使含量不準(zhǔn)確）。應(yīng)采用硬連接工藝，以有效防止這些氣體滲透和擴(kuò)散造成的樣品污染。 2、標(biāo)準(zhǔn)注氣注入可分為動(dòng)態(tài)注入和靜態(tài)注入。一些儀器
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