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六氟化硫氣體抽樣檢測有哪些
六氟化硫氣體的質(zhì)量應(yīng)按照國家標準的規(guī)定進行驗證。測試項目包括空氣（N2、O2）、四氟化碳（CF4）、六氟化硫（SF6）、SF6微水測試（H2O）、酸度（HF）、可水解氟化物（HF），礦物油和毒性生物測試。試驗結(jié)果應(yīng)符合GB/T12222的規(guī)定。 （1） 當六氟化硫氣體中的濕度相對較高時，當設(shè)備中發(fā)生電弧時，氣體的電弧分解產(chǎn)物會產(chǎn)生許多有毒物質(zhì)，如SOF2、HF等。，這會腐蝕斷路器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)材料并威脅維護人員的人身安全。此外，當濕度高時。隨著溫度的變化，絕緣部件表面會產(chǎn)生冷凝，導致表面翻轉(zhuǎn)。它降低了絕緣更多 +
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四氟化碳僅僅只是一種超低溫冷媒嗎？
CF4，中文名稱四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane，分子式CF4。也被稱為R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等。 四氟化碳氣體理化特性 在常溫下，四氟甲烷是無色、無臭、不燃，不溶于水的可壓縮性氣體。沸點：-128℃，熔點：-183.6℃。液體密度（-130℃）1.613g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74Mpa，蒸氣壓（-150.7更多 +
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四氟化碳的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 &nb更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來，《中國制造2025》、《“十三五”國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問題的通知》等政策扶持，我國超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長亦十分可觀。 常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。 三氟更多 +
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標準氣體生產(chǎn)廠家|紐瑞德特種氣體|湖北氣體生產(chǎn)廠家
在我們生活中存在著很多的氣體，有些氣體對我們的幫助是十分大的，而標準氣體就是這些氣體的統(tǒng)稱，標準氣體可以幫助我們進行很多的工作,電子、太陽能、半導體、電力、科研、照明、制藥、石油化工、建材和食品等行業(yè)都有著廣泛應(yīng)用。 紐瑞德由從事氣體行業(yè)23年的資深技術(shù)人員創(chuàng)建，引進美國先進的氣體生產(chǎn)技術(shù)、分析的設(shè)備和質(zhì)量管理理念。主要經(jīng)營：稀有氣體（氪、氙、氖、氦）、同位素產(chǎn)品、標準混合氣體、電子氣體（六氟化硫、四氟化碳、三氟化氮等）、高純/超純氣體（氬、氮、氧、氫等）。 公司生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品質(zhì)更多 +
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四氟化碳組分氣體的氣相色譜試驗方法
四氟化碳用途廣泛，目前是微電子行業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。它作為溫室氣體中的一個中類，可以通過多種途徑進入水體、土壤、大氣中，對環(huán)境造成污染。目前的研究已充分證實了臭氧層的損耗與四氟化碳氣體在大氣中釋放的自由基有關(guān)。因此，為了準確的評估四氟化碳的排放量，提供四氟化碳組分氣體的分析方法及準確定值的方法，評價該類氣體物質(zhì)對自然環(huán)境以及經(jīng)濟發(fā)展的影響是當前急需解決的問題！ 國家標準物質(zhì)研究中心對該組份氣體的制備方法、分析方法以及定值方法進行了研究。通過研究確立氣體標注物質(zhì)量值的復現(xiàn)程序及更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃氣體，如果遇到高熱后會造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險。通常常溫下只會與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級C4F6成為集成電路IC芯片等制造時必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結(jié)納米級溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團隊提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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