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告別六氟化硫，C4F7N的崛起之路
C4F7N（全氟異丁腈）未來可能在很大程度上取代六氟化硫作為絕緣介質(zhì)，因其優(yōu)越的環(huán)保性能及良好的絕緣特性，然而其高成本、液化溫度及標(biāo)準(zhǔn)不完善等局限性仍使得完全取代困難。隨著技術(shù)進(jìn)步和應(yīng)用探索，C4F7N的前景仍被廣泛看好。更多 +
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