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: 99.999%（5N）高純四氟化碳

產(chǎn)品分類：四氟化碳
純度：99.999%（5N）
包裝：鋼質(zhì)無(wú)縫氣瓶
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式：CF4
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: 無(wú)色無(wú)臭的神奇氣體——四氟化碳

四氟化碳是一種無(wú)色、無(wú)臭的氣體，具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和多種應(yīng)用，包括制冷和氣體絕緣。它在科幻電影中常被描繪為一種替代水的呼吸液體，引發(fā)人們對(duì)其潛力的深入思考。在高溫條件下有毒氟化物可能被釋放，但在常溫下相對(duì)安全。
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: 電子氣體國(guó)標(biāo)發(fā)布，推動(dòng)半導(dǎo)體制造發(fā)展

近日，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)發(fā)布了五項(xiàng)電子氣體國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，涵蓋了一氧化碳、二氧化碳、四氟甲烷、八氟環(huán)丁烷和基硫等關(guān)鍵指標(biāo)。電子氣體作為半導(dǎo)體制造的基本保證，其質(zhì)量和純度直接影響芯片制造的效率和成品率。電子氣體國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的頒布將有利于促進(jìn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，全面提升半導(dǎo)體生產(chǎn)的質(zhì)量和效率。
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: 四氟化碳是什么？有什么用？

四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無(wú)機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大，有開(kāi)裂、爆炸危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。
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: 四氟化碳CF4化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS

四氟化碳CF4化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS 四氟化碳,四氟化碳?xì)怏w,四氟化碳標(biāo)準(zhǔn)氣體,四氟化碳混合氣體一、化學(xué)品名中文名稱：四氟化碳MSDS別名：四氟甲烷英文名：Carbon tetrafluoride二、成分組成信息名稱：四氟化碳MSDS有害成分：受熱分解后可產(chǎn)生氟化氫。濃度：99.999%分子量：88.01分子式：CF4CAS: 75-73-0三、危害性概述危險(xiǎn)性類別：第2.2類不燃?xì)怏w侵入途徑：吸入健康危害：吸入高濃度的四氟化碳出現(xiàn)呼
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: 四氟化碳僅僅只是一種超低溫冷媒嗎？

CF4，中文名稱四氟化碳、四氟甲烷，英文名稱Carbon Tetrafluoride or Tetrafluoromethane，分子式CF4。也被稱為R-14制冷劑，別名R14、氟利昂14、PFC-14，商品名稱有Freon 14等。四氟化碳?xì)怏w理化特性在常溫下，四氟甲烷是無(wú)色、無(wú)臭、不燃，不溶于水的可壓縮性氣體。沸點(diǎn)：-128℃，熔點(diǎn)：-183.6℃。液體密度（-130℃）1.613g/cm3，臨界溫度-45.67℃，臨界壓力3.74Mpa，蒸氣壓（-150.7
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: 四氟化碳的應(yīng)用

四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過(guò)程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用。 &nb
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: 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈之電子特種氣體行業(yè)深度研究：四氟甲烷

四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)、激光技術(shù)、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測(cè)劑、控制宇宙火箭姿態(tài)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑、潤(rùn)滑劑及制動(dòng)液等方面也有大量應(yīng)用。由于它的化學(xué)穩(wěn)定性極強(qiáng)，CF4 還可用于金屬冶煉和塑料行業(yè)等。當(dāng)今超大規(guī)模集成電路所用電子氣體的特點(diǎn)和發(fā)展趨勢(shì)是超純、超凈和多品種、多規(guī)模，各國(guó)為推動(dòng)本國(guó)微電子工業(yè)的發(fā)展，越來(lái)越重視發(fā)展特種電子氣體的生產(chǎn)技術(shù)。就目前而言，CF4
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: 四氟化碳是什么？有什么用？

四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無(wú)機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w，如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大，有開(kāi)裂、爆炸危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作用。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，可廣泛用于硅、二氧化硅，磷硅玻璃等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄露檢驗(yàn)劑、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等
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: 四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用

四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無(wú)機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過(guò)程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過(guò)程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控
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