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電子特氣—三氟碘甲烷蝕刻技術(shù)
三氟碘甲烷作為滅火劑具有滅火效率高、安全性能好、經(jīng)濟(jì)效用高、滅火后不留痕跡等特點(diǎn),是哈龍1301優(yōu)選替代品種,經(jīng)NFPA的標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證,可正式使用。在航空、航天等領(lǐng)域具有不可替代的作用。作為制冷劑,三氟碘甲烷不燃,具有油溶性和材料相容性很好的特點(diǎn),被認(rèn)為是傳統(tǒng)氟利昂制冷劑組元的理想替代品之一。另外,三氟碘甲烷在含氟中間體、半導(dǎo)體蝕刻、發(fā)泡劑等其它領(lǐng)域也具有廣泛的應(yīng)用前景。 三氟碘甲烷(CF3I)作為半導(dǎo)體刻蝕氣體用于3D NAND Flash先進(jìn)制程,與同種刻蝕氣體CF4,C4F6相比,三氟碘甲烷(C更多 +
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