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六氟乙烷和八氟丙烷：可靠的絕緣劑和冷凍劑選擇
六氟乙烷，C2F6，R-116)和八氟丙烷(C3F8，R-218)是兩種常見(jiàn)的氟化碳化合物。它們廣泛應(yīng)用于各種 工業(yè)領(lǐng)域，具有多種功能和用途。更多 +
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特種氣體在蝕刻中的應(yīng)用
刻蝕分為濕法蝕刻和干法蝕刻。???硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體，包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。???蝕刻氣體氣體工業(yè)名詞，蝕刻就是把基片上無(wú)光刻膠掩蔽的加工表…更多 +
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六氟乙烷C2F6化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS
六氟乙烷C2F6化學(xué)品安全技術(shù)說(shuō)明書(shū)MSDS 六氟乙烷,六氟乙烷氣體,六氟乙烷標(biāo)準(zhǔn)氣體,六氟乙烷混合氣體 一、基本信息國(guó)標(biāo)編號(hào)：22034CAS：76-16-4中文名稱：六氟乙烷msds英文名稱：Hexafluoroethane別 名：R116；全氟乙烷分子式：C2F6；CF3CF3分子量：138.0熔 點(diǎn)：-101℃密 度：相對(duì)密度(水=1)1.61；蒸汽壓：/溶解性：微溶于水穩(wěn)定性：穩(wěn)定外觀與性狀：無(wú)色、無(wú)氣味、非易燃的氣體，在24.3℃以上時(shí)不能保持液態(tài)，通常裝在更多 +
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含氟蝕刻氣體的種類和介紹
目前，氟化蝕刻氣體是一種隱形的“刀具”，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體或LCD前端工藝，甚至可以在微米厚的薄層上切割納米級(jí)凹槽。你能仔細(xì)想想這幅畫嗎？ 那么，氟化蝕刻氣體是什么呢？它們是如何工作的？ 用于蝕刻的氣體稱為蝕刻氣體，通常是氟化物氣體，如四氟、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 含氟蝕刻氣體是電子氣體的一個(gè)重要分支，是制造超大集成電路、平面顯示器、太陽(yáng)能電池和玻璃纖維等電子工業(yè)不可或缺的原材料。它們被廣泛用于半導(dǎo)體工藝，如薄膜、蝕刻、摻雜、氣相沉積和擴(kuò)散。國(guó)家發(fā)展改革委《產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)更多 +
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六氟乙烷的應(yīng)用
電子工業(yè)：六氟乙烷作為等離子體蝕刻的工作氣體，在微電子工業(yè)的發(fā)展中發(fā)揮著重要作用，是處理超大規(guī)模集成電路的必要介質(zhì)； 2.制冷和空調(diào)行業(yè)：六氟乙烷用作制冷和空調(diào)的制冷劑。六氟乙烷也可以與HFC-23形成共沸物R-508B，這不會(huì)破壞臭氧層。R-508B在多級(jí)壓縮循環(huán)的低溫段中用作CF-13和R-503的替代品； 3.化學(xué)工業(yè)：六氟乙烷可作為化學(xué)反應(yīng)中的氟化物添加劑； 4.能源工業(yè)：六氟乙烷可作為電氣設(shè)備的絕緣劑和高介電強(qiáng)度的冷卻劑； 5.其他：六氟乙烷可用于設(shè)備表面清潔和纖維生產(chǎn)。更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來(lái)，《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持，我國(guó)超大規(guī)模集成電路、LCD器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。與此同時(shí)，隨著這些行業(yè)的快速發(fā)展，含氟特殊電子氣體也有了很大的增長(zhǎng)。 常見(jiàn)的含氟特殊電子氣體有六氟化硫（sf6）、六氟化鎢（WF6）、四氟化物（CF4）、三氟甲烷（CHF3）、三氟化氮（NF3）、六氟乙烷（C2F6）和八氟丙烷（C3F8）。 三氟化氮（NF3）是一種含氟特殊氣體，是市場(chǎng)更多 +
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三氟化氮等特種電子氣體高速發(fā)展
近年來(lái)，《中國(guó)制造2025》、《“十三五”國(guó)家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃》、《關(guān)于集成電路生產(chǎn)企業(yè)有關(guān)企業(yè)所得稅政策問(wèn)題的通知》等政策扶持，我國(guó)超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池等產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。同時(shí)，含氟特種電子氣體伴隨這些行業(yè)的高速發(fā)展增長(zhǎng)亦十分可觀。 常用的含氟特種電子氣體有六氟化硫(SF6)、六氟化鎢(WF6)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)和八氟丙烷(C3F8)等。 三氟更多 +
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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級(jí)C4F6成為集成電路IC芯片等制造時(shí)必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡(jiǎn)直為0，而且能完結(jié)納米級(jí)溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊(duì)提出自主開(kāi)發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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